球磨机技术革新紧跟时代的脚步
据了解， 研磨体最内层是指运动着的研磨体在某一最小半径R，圆弧上，随简体回转提升至一定高度后，仍能按抛物线轨迹降落，降落点处于极限位置。双电层内层吸附。双电层内层吸附也称定位吸附。矿物表面吸附溶液中与该矿物晶格同名离子或与晶格离子成类质同像的离子，吸附到双电层的内层，吸附的结果可以改变矿物表面电位的数值和符号。
因此在确定研磨体装填量时，球磨机厂家认为务必使研磨体最内层的半径比252/n要大，否则研磨体在降落时，将会互相干扰、碰撞，这就会损失它们的能量，降低粉磨效率。浮选中交换吸附的实例很多。例如，Cuz+对闪锌矿表面的活化作用，印为Cuz+与闪锌矿表面2n2+进行交换吸附的结果，从而活化于闪锌矿，提高闪锌矿的可浮性。
根据上述这些夹角关系，降落点的轨迹就可按下法作出：从脱离点的轨迹曲线AC上取一系列点o，由各点与简体中心o连成直线，因而作出一系列角，还可作一系列角A，其大小为a的三倍，它与脱离点对于0之同心圆的交点轨迹为DB，即为降落点的轨迹曲线。显然降落点的轨迹曲线应通过简体中心0，故脱离点和降落点均应汇交在一起。矿物表面对离子的吸附量与溶液中该离子的浓度成正比。如以o代表某种离子在溶液中的浓度，r代表该离子在矿物表面的吸附量。
